IBS Institute for Basic Science
Search

공지사항

Ebeam lithography Ⅱ

equipment explanation
Model JSM-IT200
Operating time SUN(00:00~24:00)
MON(00:00~24:00)
TUE(00:00~24:00)
WED(00:00~24:00)
THU(00:00~24:00)
FRI(00:00~24:00)
SAT(00:00~24:00)
Location 86698
inquiry Minjeong Kim
010-5561-2463
fkfkfkfkfk98@naver.com
Reservation

Notice

Only assigned operators can use this machine 3 hour use will be maximum

Available Time // 09:00~24:00 on every day.

System descriptions : 

 E-beam lithography system is used to pattern micro/sub-micro structure 

 

System specifications : 

 Resolution High vacuum mode : 3.0nm (30kV), 8.0nm(3kV), 15.0nm (1.0kV)

 Direct magnification : x5 to 300,000 

 Electron gun : W filament, Fully automatic gun alignment 

 Accelerating voltage : 0.5 to 30kV 

 Probe current : 1 pA to 0.3 μA*5 

 Objective lens aperture : 1-stage, with XY fine adjustment function

 Automatic functions : Filament adjustment, Gun alignment, (Focus /Stigmator /Brightness /Contrast) 

 Maximum specimen size : 150 mm dia. × 48 mm (H) 

 Specimen stage : XY-2 axes motor-drive eucentric stage X: 80 mm, Y: 40 mm, Z: 5 to 48 mm Tilt: –10 to 90°, Rotation: 360° 

 Observation monitor : 24-inch touch panel

 Vacuum system : Fully automatic, TMP: 1 RP: 1